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目前,接觸式圖像傳感器大致可分為兩種,一種是使用易于制成大面積薄膜的光電變換材料,另一種則是將多集成電路線陣傳感器排成長條狀多芯片式。后者雖然性能優異。
但需要高精度的連接技術,故在提高分辨率方面,至今尚存在一些問題。就前者而言.作為薄膜光電變換材料,迄今使用了硫化鍋——硒化鎘(CdS—CdSe),砷—硒一碲(As—穩定性,而且還無公害。要用這種非晶硅制作高速,高性能裝置的光電變換器件時,從對光具有響應特性的角度看,可采用具有阻流電極結構的層狀式器件,使用肖特基勢壘二極管,金屬——絕緣體——半導體(MIS)二極管,P—i—iq_二極管的圖像傳感器均有報道。
不同的器件結構具有不同的特點,如肖特基勢壘二極管的結構最簡單,MIs二極管可得到非常小的暗電流,P—i—iq_二極管具有良好的整流特性。日本日電公司光電子學研究所的板術干雄等研制了異質結二極管,該二極管結構較為簡單,易于制作,即便是在高溫時也能獲得較小的暗電流,其結構是在氧化銦錫(ITO)和非晶硅之間夾人一層P型非晶SiCx,以圖提高光電二極管的性能。有關非晶硅異質結二極管的制備工藝,日本日電公司光電子研究所已作了詳細介紹。已研制出掃描速度為0.8,讀出時問為1~1.5毫秒/線,分辨率為8位/毫米(總像素1728位),12位/毫米(總像素2592位);16位/毫米(總像素為3456位)的無定形硅接觸式圖像傳感器。已廣泛用于傳真機和掃描儀中。
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